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高純氬氣主要用途：用於焊接、不鏽鋼製造、冶煉，還用於半導體製造工藝中的化學氣相澱積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬氣作為製作單晶及多晶硅的保護氣，為了提高硅晶體的質量，如何選用較高純度的氬氣，是製作硅晶體的一個議題。通過本裝置對氬氣的使用，氬氣的純度其中氧含量小於1ppm時，水分也小於1ppm時，製作出的單晶硅其氧碳含量就小於0.5ppm，這樣就提高了單晶的使用壽命並能達到要求，贏得客戶的滿意和市場的需求。由於一般液氬汽化后未經過純化處理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有時氣體供應商提供的氬氣超過了此範圍，但使用氬氣的客戶確不知道其質量，所以往往給生產產品質量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質量如何，只要經過純化裝置的處理后，進入拉晶爐的氬氣，純度始終是恆定的。一般 O2＜0.2ppm,水分＜1ppm，這樣穩定的氬氣對生產晶體質量是有保証的。氬氣純化裝置是針對需要使用超高純度氬氣的客戶而設計的。廣氾應用於在金屬保護行業、電子、電光源、科研、氣體、分析、醫學等領域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學儀器等等已知或未知的寬廣領域

裝置特點：

1. 催化劑採用了最先進環保的催化材料。具有吸附深度高，吸收雜質氣量大的特點，經催化吸附乾燥過濾后使其最終純度達99.9999%以上。100級的氣體出口過濾器使其最終純氣顆粒小於0.1μ，確保氣體滿足高純氣要求，原位再生功能保証了氣體的品質如一，達到了環保節能的最終目的

2. 本裝置所有閥門，容器，管路全系不鏽鋼製作，均採用國內外專業製造企業的名優產品，直接保証了設備工作過程中的高真空無滲透及無故障運行安全可靠性。

3. 精緻的控制儀表，電路電器選自高端跨國公司，如西門子，施耐德等。

4. 設備所有連接接頭均選自知名企業先進的VCR接頭,杜絕滲漏，安全快捷。

5. 人性化的外觀設計,使設備外形精巧更美觀，操作更方便

一 、設備工作原理

設備工作設有兩組工作組，填裝的淨化材料屬於可再生重複利用材料。原料液氬經汽化器汽化后由設備工作進口進入設備一組工作組，經脫氧劑、分子篩及精密高效過濾器后送出至工作點使用。一組工作組負荷飽和后，切換到另一組工作組工作，保証為使用點連續的提供高純氬氣。同時一組工作組開始再生加熱加氫反吹洗（本系統加氫是為了還原脫氧劑，加氫結束后設備自動吹洗並直接放空），為等待下一次切換使用做好準備。裝置工作為常溫工作，脫氧程度深、碳水含量低，均可達到並高于GB高純氬氣標準。

二、主要技術條件

1、 處理氣量 ≥2-320Nm3/h

2、工作壓力 ＜0.8Mpa

3、原料氬氣純度 ≥99.99%

4、純化后 O2 ≤0.2ppm CO+CO2＜0.3ppm CH4＜0.2 ppm H2O≤1ppm