產品描述
氧化鉿
化學符號：HfO2
外 觀：白色
分 子 量：210.49
密 度：9.7g/cm³
熔 點：2500℃
折射率（波長/nm）：1.9-2.1（300）
1.84-2.0（2500）
沸 點：5400℃
線膨脹係數：5.8×10-6/℃（250-1300）
10¯4真空下蒸發溫度為：2500℃
蒸發方式：電子束
透明波段/nm：235-2500
介電常數：20.5-23
比 容：0.05μF/cm2
電容溫度係數TCC：（1.25～2.50）×10-4/℃
性 能：適於電子槍蒸發，成膜緻密穩定。紫外波段的優良材料。不溶于水，耐化學性質，但在高溫下能與氫氧化物起反應，膜堅硬；
應 用：主要用於紫外膜、防反膜或高反膜和耐火材料、紫外-近紅外多層膜。
HfO2薄膜是一種絕緣氧化物，即可做薄膜電阻，又可做介子薄膜，一般用濺射法沉積制備。
HfO2分析報告:
Ti Fe Mn Mg Cr Ni
0.0 1 0.012 0.001 0.015 0.005 0.009
Al Cu
0.0 1 0.005
產品圖片
圖 1
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