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江蘇地區環保無氰碱銅液
工藝特點：
CU200是我公司引進國外技術最新研製開發的新一代無氰鍍銅新工藝，其特點如下：
無需氰化鈉，很適用於鋼鐵件、黃銅件、鋁合金、鋅合金工件作底層電鍍，結合力強 
鍍液穩定可靠，壽命長 
鍍液活性強，陰極極化電位大，鍍層可加厚，光亮度高，無脆性 
廢水處理容易，只需加沉澱劑就可以除去有機物，可達標排放。
溶液組成及操作條件：
原材料及操作條件    挂鍍    滾鍍
純水    500毫升/升    500毫升/升
RC-CU200A    400 毫升/升    400毫升/升
RC-CU200B    100毫升/升    100毫升/升
pH值    9.5(9.0-10)    9.5(9.0-10)
溫度    50(40-60) ℃    50(40-60) ℃
Dk(A·dm-2)    1(0.5-1.5)    0.6(0.1-0.9)
SA:SK    1.5:1    1.5:1
陽極    軋制高純銅板    軋制高純銅板
時間    2－5分鐘    20－30分鐘
攪拌    陰極移動或空氣攪拌(視情況)    陰極移動或空氣攪拌(視情況)
過濾    連續過濾    連續過濾
鍍液配製(挂鍍，以100L為例)
鍍槽中加入40L去離子水，加人40L200A溶液(內含銅900g)，攪拌。
用50%KOH溶液調pH值，控制溶液pH值9.5。
加入200B光亮劑10L，攪拌，加去離子水達工作體積，攪拌均勻。
加熱至工作溫度，試鍍。
鍍液的控制與維護
200A電鍍濃縮液為基礎基質提供銅。在電鍍過程中，沉積的銅由陽極侵蝕補充。帶出的複雜藥劑由添加200B補充。一般只在新配槽或鍍液功能竭盡時才能添加200A。鍍液中銅含量，挂鍍一般維持在8~10g/L，滾鍍維持在6~8g/L。在生產過程中由於鍍液的帶出損耗和電極過程的損失，可根據化學分析進行補充，每缺少銅lg/L，可補充200A44mL/L。（A400，B100）
200B補充液中含複雜藥劑，它的添加可作為帶出的補充和因電化學作用而消耗的量，過少將會引起結合力下降，輕微過量將不會引起什麼不良影響。200B補充液中含有較強酸性物質，所以添加小心，且加入后需要用50%的氫氧化鉀調整pH值。200B的消耗量約為100~150mL/kAh，也可根據霍爾槽試驗添加。
鍍液的pH值應控制在9.0~10，不可低於9，以免影響鍍層結合力，升高pH值用碳酸鉀，降低pH值用200B。
陽極材料採用軋制高純銅板為好，為防止陽極泥及銅粉污染鍍液，最好用尼龍套，並連續過濾鍍液。
應嚴格防止CN-和鐵、銅、鎳、鉻等金屬離子污染槽液，導致鍍層外觀變差，產生霧狀，結晶粗糙，色澤暗紅等缺陷。

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