| 型號： | frd-005 |
|---|---|
| 品牌： | 福潤德 |
| 原產地： | 中國 |
| 類別： | 工業設備 / 通用機械 / 電熱設備 |
| 標籤︰ | lpcvd設備 , lpcvd專用設備 , lpcvd專用爐 |
| 單價： |
¥80000
/ 台
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| 最少訂量： | 1 台 |
| 最後上線︰2017/09/15 |
滿足半導體集成電路，電力電子器件，光電子等行業用於在硅片上澱積sio2、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難溶金屬硅化物等多種薄膜工藝。
技術參數:
熔爐管: 2-Tube (LPCVD工藝: 1tube/ 熔爐工藝:1tube)
晶圓大小: 4英吋或6英吋
裝載晶圓數: 1--10張
基板加熱用加熱器: 垂直型1-Zone加熱器
加熱器表面溫度: 1250C
最低真空度: < 0.005Torr
真空泵: 機械泵(選項:羅茨泵 或者分子渦淪泵+機械泵)
工藝控制方式: 根據程序及順序的自動方式
系統規格: 1660mm(W) X 600mm(D) X 1830mm(H)
