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真空鍍膜（PVD）工作原理：
     在高溫，真空鈦金爐內，借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金離子化，電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片，氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區域內，該區域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面做圓周運動，該電子的運動路徑很長，在運動過程中不斷撞擊電離出大量的氬離子轟擊靶材，經過多次的碰撞后電子的能量逐漸降低，拜托磁力線的束縛，遠離靶材，最終沉積在基片（需要鍍膜的物件）上，從而形成色澤豐富艷麗，硬度很高的金屬膜 。