| 型號： | SiO2 |
|---|---|
| 品牌： | 石久 |
| 原產地： | 中國 |
| 類別： | 冶金礦產、能源 / 冶金礦產 / 粉末冶金 |
| 標籤︰ | 二氧化硅 , SiO2 , 硅蒸發材料 |
| 單價： |
¥80
/ kg
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| 最少訂量： | 10 kg |
| 最後上線︰2017/05/24 |
二氧化硅，高純二氧化硅顆粒，二氧化硅靶，二氧化硅蒸發材料，鍍膜專用二氧化硅
化學符號：SiO2
沸 點：2230℃
純 度：4N
規 格：1-4mm,顆粒，靶材
分 子 量：60.08
外 觀：白色
熔 點：1700℃
密 度：2.2-2.7g/cm3
在10-4Torr真空下蒸發溫度為：1025℃
透 明 區/nm：200-8000
相對介電常數：3-4
擊穿電壓/V？cm-1：106
厚 度μm：0.03-0.3
沉積技術：反應濺射
折 射 率(波長/nm)：1.46(500)
1.445(1600)
線膨脹係數/℃-1:5.5×10-7
蒸發方式：電子束
性 能： 可用鉭舟加熱蒸發，也可用三氧化二鋁坩堝加熱蒸發，但由電阻加熱蒸發會產生分解，由電子束加熱蒸發效果很好；不溶于水和酸，但溶于氫氟酸；其微粒能與熔融碱起作用；
應 用： 二氧化硅用途廣氾，主要用於冷光膜、防反膜、多層膜、濾光片、絕緣膜、眼鏡膜、紫外膜等。