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    真空鍍膜材料 銅粒 高純銅粒99.999%蒂姆北京新材料公司

    型號:-
    品牌:-
    原產地:中國
    類別:化工 / 無機原料 / 單質
    標籤︰ -
    單價: ¥1000 / KG
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    蒂姆(北京)新材料科技有限公司

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    產品描述


    化學符號:Cu 
    原 子 量:63.546
    外觀純銅:紫紅色金屬 
    熔    點:1083.4℃
    沸    點:2567℃ 
    密    度:8.92g/cm3
    蒸 發 源(絲、片):鎢、鉭、鉬、鈮 
    坩    堝:Mo、C、Al2O3
    在10-4Torr蒸發溫度:1017℃  
    薄膜的機械和化學性質:膜層附着不好,利用中間層Cr可增加附着力;
    波長/nm  折射率n  消光係數k 反射率/%
     450      0.87       2.2     58.3
     500      0.88       2.42    62.5
     550      0.76       2.46    66.8
     600      0.19       2.98    92.6
     800      0.17       4.84    97.3
     1000     0.20       6.27    98.0
     3000     1.22       7.10    91.2
     7000     5.25       40.7    98.8
     10250    11.0       60.6    98.8
    性    能:質地堅韌、有延展並有順磁性,高純銅具有良好的導電性、延展性、抗腐蝕能力和表面性能;6N銅在近350K時軟化而4N銅在440K時軟化;銅在乾燥的空氣中不易被氧化,但銅子含有CO2的潮濕  空氣中,表面與空氣中CO2生成一層有毒的碱式碳酸銅(銅綠)這層膜保護銅不在被CO2腐蝕;在空氣中加熱時錶面會與O2形成黑色氧化銅;在鹽酸和稀硫酸中不易被溶解,但是銅能溶于具有氧化作用的硝酸或含有氧化劑的鹽酸中;還溶于氨水。高純銅在極低的溫度下具有高的導熱性,在8K時6N銅的熱導率為3.0×104W/(m•K),而4N銅在18K時的熱導率為3.1×103W/(m•K)。高純銅具有優良的加工性能,可以被拉成很細的銅絲,也可以被壓製成很薄的銅箔。如果高純銅中硫含量極低,則在600-700K時銅的脆性將消失,而這時普通的銅的脆性還存在。而如雜質氧含量很低時,高純銅的氫脆現象也消失。
    應    用:保護膜,反射膜,增透膜
             1.銅在電氣、電子工業中應用最廣、用量 ,占總消費量一半以上。用於各種電纜和導線,電機和變壓器的這種,開關以及印刷線路板 在機械和運輸車輛製造中,用於製造工業閥門和配件           、儀表、滑動軸承、模具、熱交換器和泵等。 
         2.在化學工業中廣氾應用於製造真空器、蒸餾鍋、釀造鍋等。 
         3.在國防工業中用以製造子彈、砲彈、鎗砲零件等,每生產300萬發子彈,需用銅13-14噸。 
         4.在建築工業中,用做各種管道、管道配件、裝飾器件等。
    Cu分析報告:
    純度 99.95%
     Bi     Sb     As     Fe     Ni    Pb
    0.001  0.002  0.002  0.004  0.002  0.003
     Sn     S      Zn     P  
    0.002  0.004 0.003  0.001  

     


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