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提供高精度光學光刻旋轉平台，即氣浮轉台，一般採用公司標準系列氣浮轉台，詳見本網站氣浮轉台頁面，或以此為基礎改制。光學行業已經應用的場合有：偏測儀、定心車、大鏡面研拋加工（機器人配合）、大鏡面掃描測量；芯片半導體行業應用有：芯片測量、硅片拋光、硅片減薄、光刻、LDI光刻、手機生產鏈檢測。

提供高精度光學光刻氣浮位移平台：一般採用定製形式，光學行業已經應用的場合有：偏測儀Z軸台、定心車、CCD拼接儀、大鏡面研拋加工、大鏡面測量；芯片半導體行業應用有：芯片製程中的測量和檢測、LED製程中的檢測、光刻、LDI光刻、手機生產鏈檢測。

氣浮位移平台產品現狀：目前有幾種基本形式。一種是採用氣足組合的，類似三坐標測量機位移平台結構。優點是成本低、搭建相對容易；缺點是剛度低只適合低速低頻、結構複雜零件多、調整部件太多不穩定、精度相對較低。另一種是以美國areotech為代表的半導體行業專用氣浮位移平台，優點是採用一體化的設計，精度高、可高速高頻；缺點是對環境要求太高，尤其是對溫度環境要求太高；其實對環境的過分要求，也會影響實際可以達到的精度，這類平台的精度指標都指的是在幾乎理想環境下的指標。

天津中精微/北京航星聯合的氣浮位移平台，克服了目前各種結構形式的缺點，是目前國內國外高精度氣浮位移平台首選：

1，在設計上消除了熱膨脹係數的影響，溫度適用性非常強

2，產品採用整體設計，精度高沒有調整環節。

3，充分發掘潛力，最大程度提高氣膜面積，承載往往超出數倍，剛度極好。適合高速高頻運動。

提供高精度光學光刻氣浮位移平台快速定製服務

以下高精度光學光刻氣浮位移平台可以直接採用