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緊湊型、模塊化和智能化
CCU-010 HV為一款結構緊湊、全自動型的高真空離子濺射和蒸發鍍碳一體化鍍膜儀，使用非常簡便。採用獨特的插入式設計，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕鬆配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之前和/或之後，可以進行等離子處理。模塊化設計可輕鬆避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標配膜厚監測裝置。

特點和優點
✬高性能離子濺射、蒸發鍍碳和可選的等離子處理
✬專有的自動碳源卷送設計–多達數十次碳鍍膜，無需用戶干預
✬獨特的即插即用濺射和蒸碳鍍膜模塊
✬一流的真空性能和快速抽真空
✬結構緊湊、可靠且易於維修
✬雙位置膜厚監控裝置，可兼容不同尺寸的樣品
✬主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量並延長連續運行時間

巧妙的真空設計
CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀涵蓋了最高級的SEM、TEM和薄膜應用。特別選擇和設計的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時間。兩個附加的標準真空法蘭允許連接第三方設備。

LC-006金屬大腔室
可選的LC-006是當前玻璃腔室的擴大版，為鋁制結構。這個金屬腔室可容納6"晶圓樣品或其它大尺寸樣品，而且消除了對內爆防護的需求。在CCU-010 HV上選配LC-006, 無需任何修改就可實現更大樣品和晶圓的鍍膜。

SP-010 & SP-011濺射模塊
兩種濺射模塊一旦插入CCU-010 HV鍍膜主體單元，均可立即使用。
SP-010和SP-011濺射模塊具有有效的主動冷卻功能，連續噴塗時間長，非常適合需要較厚膜的應用。 可選多種濺射靶材，適合SEM、FIB和各種薄膜應用。
SP-010濺射裝置的磁控組件旨在優化靶材使用。這使其成為電子顯微鏡中精細顆粒貴金屬鍍膜的理想工具，也適合於極細顆粒尺寸鍍膜。
SP-011濺射裝置的磁控組件用於大功率濺射和寬範圍材料的鍍膜。對那些比常規EM應用要求鍍膜速率更高、膜層要求更厚的薄膜應用時，推薦使用該濺射頭。SP-011濺射頭與CCU-010 HV主體單元相結合，可滿足諸如DLC，ITO或鐵磁濺射材料鍍膜等具有挑戰性的應用。（二選一作為標配）

CT-010碳蒸發模塊
緊湊的插入式碳蒸發模塊為鍍碳樹立了新標杆。將該頭插入CCU-010 HV鍍膜主體單元后，即可立即使用，適合SEM、TEM和任何需要高質量碳膜應用的場合。CT-010使用歐洲專有的、獨特且技術領先的碳繩卷軸系統，可以進行多達數十次塗層的鍍膜，而無需更換碳源。一段碳繩蒸發后，新的一段會自動前進，用過的碳繩會掉落到方便的收集盤中。除了易於使用外，自動卷軸系統還允許在一個鍍膜循環內可控地沉積幾乎任何厚度的碳膜。易於選擇的鍍膜模式可保障鍍膜安全，從對溫度敏感的樣品進行溫和的蒸鍍薄膜到在FIB應用中厚膜層的高功率閃蒸鍍碳。整合脈衝蒸發、自動啟動擋板后除氣及膜厚監控的智能電源控制提供了精確的膜層厚度，並可避免火花引起的表面不均勻。

GD-010輝光放電模塊
可選的GD-010輝光放電系統可快速安裝，通過空氣、氬氣或其它專用氣體進行表面處理，例如，使碳膜親水。本機可按順序進行碳鍍膜和輝光放電處理，無需“破”真空或更換處理頭，極大地簡化了操作過程。本單元安裝到CT-010，與所有樣品台兼容。

HS-010真空儲存箱
可選的HS-010真空儲存箱可在真空條件下存放備用鍍膜頭、備用行星台或旋轉台、所有濺射靶材和碳附件，使它們處於清潔狀態。通過集成的真空管路與鍍膜主體單元連接，利用CCU-010抽真空系統對儲物箱抽真空。可選地，用戶也可用外接真空泵替代。舒適的手動鎖定裝置和放氣閥允許對儲物箱進行獨立的抽真空和放氣控制。額外的標準真空腔室可有效地避免蒸碳和濺射金屬之間的交叉污染。

ET-010等離子刻蝕單元
在對樣品進行鍍膜之前或鍍膜之後，可選該單元對樣品進行等離子刻蝕處理。使用該附件，可以選擇氬氣、其它蝕刻氣體或大氣作為處理氣體。這樣可以在鍍膜前清潔樣品，增加薄膜的附着力。也可在樣品鍍碳后進行等離子處理，從而對碳膜表面進行改性。

Coating-LAB軟件
使用可選的基於PC的Coating-LAB軟件，可查看包括圖表信息在內的處理數據。數據包括壓力、電流、電壓、鍍膜速率和膜厚，鍍膜速率為實時曲線。便捷的軟件升級和參數設置讓此智能工具更為完美。

RC-010手套箱應用的遠程控制軟件（可選）
◎基於window的遠程控制軟件
◎創建和調用配方
◎實時圖表，包含導出功能（Excel、png等）
◎自動連接到設備

可選多種樣品台
CCU-010提供了一個直徑80mm的樣品台，該樣品台插入到高度可調且可傾斜的樣品台支架上。可選其它專用的旋轉樣品台、行星台、載玻片樣品台等。

CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀及其版本
CCU-010 HV 系列高真空鍍膜系統專為滿足電鏡樣品制備領域及材料科學薄膜應用的最高要求而設計。CCU-010 HV 高真空濺射和鍍碳儀採用優質組件和智能設計，可在超高分辨率應用中提供出色的結果。該設備是全自動抽真空和全自動操作，採用TFT 觸摸屏操控，配方可編程，保証結果可重複。CCU-010 HV 標配抽真空系統完全無油，含高性能渦輪泵和前級隔膜泵，均位於內部，外部沒有笨重的旋轉泵和真空管路。這是一款尺寸合理的桌上型高真空鍍膜儀。使用無油抽真空系統可將鍍層中的污染或缺陷降至最低。關閉時，該設備可以保持在真空下，這有效地保護了系統免受灰塵和濕氣的影響，並為高質量的鍍層創造了快速抽真空和有利的真空條件。

CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀版本：CCU-010 HV高真空磁控離子濺射鍍膜儀；CCU-010 HV高真空熱蒸發鍍碳儀；CCU-010 HV高真空離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀；CCU-010 HV高真空手套箱專用鍍膜儀。

CCU-010 HV 系列高真空鍍膜儀的主要亮點在於實現了兩大技術性突破：一是獨家採用自動碳纖維卷繞系統，在每次蒸發后自動推進碳纖維，在不破真空更換碳源的情況下可進行數十次的鍍碳運行，比市場上常見的單次、雙次或四次碳纖維鍍膜方式節省大量的人工操作，既適用於大多數常規鍍碳應用，也適用於超薄或超厚碳膜以及溫度敏感樣品的應用。二是將“鍍膜前對樣品表面進行等離子清潔（增加附着力）+鍍膜+鍍膜后對膜層表面進行改性（比如：親水化）或刻蝕”全流程集於同一台儀器同一次真空下完成，大大提高了鍍膜質量，拓寬了應用範圍。另外，瑞士製造，是“精密”和“高品質”的代名詞；瑞士原廠貨源，覃思本地服務，客戶買得放心、用得省心！