“SELFA”是一種高粘性,易剝離的UV保護膜,具有優越的耐熱性(220℃,2hr +Reflow)和抗化性,以產生氣體方式實現無損傷剝離,並且經過熱製程依然無殘膠。
其優越的性能可實現半導體的新製程開發: