型號: | CVD |
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品牌: | 精誠華旗 |
原產地: | 中國 |
類別: | 工業設備 / 其他工業設備 |
標籤︰ | HVPE , LPCVD , PECVD |
單價: |
-
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最少訂量: | 1 台 |
最後上線︰2014/08/18 |
系統組成:
由生長室、氣源、氣體控制系統、真空系統、整機的計算機控制系統等組成。系統各工藝參數均可由計算機自動控制( WINDOW 界面)。
技術說明:
1 、生長過程中氣體的流量、襯底轉速度、襯底的加熱溫度、生長室的工作壓力等工藝參數由計算機實時自動控制。
2 、系統生長室的本底真空度可達 1.0 × 10 -5 Pa ,生長壓力可以在 1.0 ~ 1.0 × 10 -5 Pa 的範圍內設定,預處理室的真空度可達 1.0 × 10 -5 Pa
3 、系統採用磁流密封技術,樣品可在 0 ~ 1500rpm 範圍內旋轉。
4 、系統可用於 III - V 族氮化物材料及其低維或多層結構的常壓與低壓生長。
5 、系統配置:進口組件,模塊化系統。
產品供貨形式:
□可與大學、科研院所單位合作完成相應的整機製造。
□可按要求提供相應的組件,如氣路單元製造、反應室設計製造、電控設計製造、計算機控制系統、機櫃加工、氣瓶櫃、氣路盤/箱、尾氣處理等等。
□二手設備的更新改造。
產品類型:科研型(R&D)
應用領域:化合物半導體-LED/半導體照明等科研領域
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