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光清洗燈／UV光清洗燈／紫外光清洗燈／UV燈

一、紫外光清洗的工作原理：

       光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質，經過光清洗后的材料表面可以達到"原子清潔度"。更詳盡的講：UV光源發射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當這些光子作用到被清洗物體表面時,大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力,吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態原子、受激分子和中子。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光后也會產生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而徹底清除了黏附在物體表面上的碳和有機污染物。

二、光清洗的特點light clean feature：

1、可在空氣中進行並且在清洗后不必進行乾燥。                 
2、可徹底清除物體表面的碳和有機污染物。 
3、無溶劑揮發及廢棄溶劑的處理問題。
4、保証產品的高可靠性和高成品率。       
5、產品表面清洗處理的均勻度一致。
6、由於光清洗是通過光敏、氧化反應去除物體表面的碳和有機化合物，所以容易發生氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對表面污垢清洗、不適對污垢量較多，無機類污垢清洗。

三、光清洗的技術應用範圍light clean technology's range of application： 

        主要在液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高精度印製電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產過程中採用光清洗方法最為合適。
       主要材料：Ito玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。
       可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘餘的光刻膠等。