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日本尼康NIKON非接觸式三次元 1
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日本尼康NIKON非接觸式三次元

型號:VMR
品牌:NIKON
原產地:日本
類別:電子、電力 / 儀器、儀表 / 量具、衡器
標籤︰三次元 , 三座標 , 影像測量儀
單價: ¥400000 / 件
最少訂量:1 件
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崑山茂鑫光電科技有限公司

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產品描述

Main Unit
Model VMR-H3030 / H3030 Z120X VMR-3020 / 3020 Z120X VMR-6555 / 6555 Z120X VMR-10080 / 10080 Z120X
Stroke (XxYxZ) 300 x 300 x 150 mm
(11.8 x 11.8 x 5.9 in.)
300 x 200 x 150 mm
(11.8 x 7.9 x 5.9 in.)
650 x 550 x 150 mm
(25.6 x 21.7 x 5.9 in.)
1000 x 800 x 150 mm
(39.4 x 31.5 x 5.9 in.)
  Optical Head for Type 1, 2, 3
  With max. magnification module (high mag. lens) 300 x 300 x 150 mm
(11.8 x 11.8 x 5.9 in.)
300 x 200 x 150 mm
(11.8 x 7.9 x 5.9 in.)
650 x 550 x 150 mm
(25.6 x 21.7 x 5.9 in.)
1000 x 800 x 150 mm
(39.4 x 31.5 x 5.9 in.)
  With max. magnification module (low mag. lens) 250 x 300 x 150 mm
(9.8 x 11.8 x 5.9 in.)
250 x 200 x 150 mm
(9.8 x 7.9 x 5.9 in.)
600 x 550 x 150 mm
(23.6 x 21.7 x 5.9 in.)
950 x 800 x 150 mm
(37.4 x 31.5 x 5.9 in.)
Minimum readout 0.01µm 0.1µm
Maximum workpiece weight 30kg (66.1 lb) 20kg (44.0 lb) 30kg (66.1 lb) 40kg (88.2 lb)
Measuring accuracy        
  U1X, U1Y 0.6 + 2L/1000µm
(with a workpiece max. 10kg)
1.5 + 4L/1000µm
(with a workpiece max. 5kg)
1.5 + 2.5L/1000µm
(with a workpiece max. 30kg)
2 + 4L/1000µm
(with a workpiece max. 40kg)
  U2XY 0.9 + 3L/1000µm
(with a workpiece max. 10kg)
2.5 + 4L/1000µm
(with a workpiece max. 5kg)
2.5 + 2.5L/1000µm
(with a workpiece max. 30kg)
3 + 4L/1000µm
(with a workpiece max. 40kg)
Z-axis (L: Length in mm < W.D.) 0.9+L/150µm 1.5+L/150µm
Camera B&W 1/3-in. CCD (progressive scan), color 1/3-in. CCD
Working distance  
  Optical Head for Type 1, 2, 3
 
50mm
 
With max. magnification module High mag. objective lens: 9.8mm Low mag. objective lens: 32mm
Magnification vs field of view  
  Optical Head for Type 1 0.5 - 7.5X / 9.33 x 7 - 0.622 x 0.467 mm
  Optical Head for Type 2 1 - 15X / 4.67 x 3.5 - 0.311 x 0.233 mm
  Optical Head for Type 3 2 - 30X / 2.33 x 1.75 - 0.155 x 0.117 mm
  With max. magnification module 1 - 120X / 4.67 x 3.5 - 0.039 x 0.029 mm
Auto focus TTL Laser AF and Vision AF
Illumination  
  Optical Head for Type 1, 2, 3 Diascopic, episcopic, 8-segment LED ring illumination (inner ring / outer ring)
  With max. magnification module Episcopic, diascopic (with high mag. head only), darkfield illumination
Power source AC100-240V±10%, 50/60Hz
Power consumption Max. 11A (Standard type),
13A (Z120X. type)
Max. 13A (Standard type), 15A (Z120X. type)
Dimensions & weigh  
  Main unit only 915 x 1060 x 1300 mm, approx. 450kg
(36.0 x 41.7 x 51.2 in., 992.1 lb.)
625 x 728 x 1195 mm, approx. 200kg
(24.6 x 28.7 x 47.0 in., 441.0 lb.)
- -
  Main unit & table 1000 x 1100 x 1900 mm, approx. 570kg
(39.4 x 43.3 x 74.8 in., 1256.6 lb.)
690 x 730 x 1725 mm, approx. 240kg
(27.2 x 28.7 x 67.9 in., 529.1 lb.)
1220 x 1680 x 1750 mm, approx. 600kg (48.0 x 66.1 x 68.9 in., 1322.8 lb.) 1530 x 2200 x 1750 mm, approx. 1500kg (60.2 x 86.6 x 68.9 in., 3306.9 lb.)
  Controller 250 (D) x 550 (D) x 500 (H) mm, approx. 31kg (9.8 x 21.7 x 19.7 in., 68.3 lb.)
Foot print 2400 (W) x 1400 (D) mm (94.5 x 55.1 in.) 2100 (W) x 1100 (D) mm (82.7 x 43.3 in.) 2400 (W) x 2000 (D) mm (94.5 x 78.7 in.) 2800 (W) x 2500 (D) mm (110.2 x 98.4 in.)
Host Computer
Main unit IBM PC/AT (Windows®2000)
Monitor 17-in. TFT color
*The "Z120X" type is equivalent to the " Z120X" type in Japan.
 
Automated Wafer Measuring System VMR3020 + NWL860T
Compatible wafer sizes ø150mm/200mm (SEMI/JEIDA compliant, silicon)
Standard wafer carriers Entegris® 150mm: PA182-60MB, 200mm: 192-80M
Processing speed per carrier
(Continuous transfer of 25 wafers)
8 minutes + NEXIV's measurement time
Orientation flat/notch detection Non-contact, transmitted-type sensor
Wafer transfer/chuck Vacuum chuck, mechanical transfer

Main unit dimensions (excluding PC rack)

1700 (W) x 960 (D) x 1735 (H) mm (66.9 x 37.8 x 68.3 in.)
Footprint (excluding areas for operation and maintenance) 2750 (W) x 1100 (D) mm (108.3 x 43.3 in.)
Main unit weight Approx. 370kg (815.7 lb.)
Requirements Electricity AC100-240V±10%, 50/60Hz, 11.5A max.
Vacuum –800hPa (–600mmHg), 10NI/min.

Wafer Carrier Measuring System NEXIV VMR-C4540
Compatible carriers
(FOUP, FOSB, OC)
SEMI-compliant ø300mm wafer carriers
200mm wafer carriers (with dedicated adapter)
Stroke Measuring head (X x Y x Z) 480 x 180 x 400 mm (18.9 x 7.1 x 15.7 in.)
Rotary table 360° (in 90° increments)
Minimum readout 0.1µm
Head travel speed XZ axis: max. 200mm/s (7.9 in.)
Y axis: max. 50mm/s (2.0 in.)

Kinematic plate rotation speed

90°/2 sec.
Camera B&W 1/2-in. CCD
Optical magnification 0.27X to 2.74X (5-step 10X zoom)
Field of view 20 x 16 mm to 2.0 x 1.6 mm
Max. workpiece weight 15kg (33.1 lb.)
Measuring accuracy (10 + 10L/1000)µm, L = measuring length in mm)
Repeatability (2σ) 2µm
Illumination Episcopic, diascopic, darkfield
Auto focus Laser AF, Vision AF
Power source AC100-240V±10%, 50/60Hz
Power consumption (approx.) AC100-120V: 13A (main unit), 9A (PC)
AC200-240V: 7A (main unit), 5A (PC)
Dimensions 1400 (W) x 1739 (D) x 2530 (H) mm (55.1 x 68.5 x 99.6 in.)
Weight Approx. 1400kg (3086.41 lb.)
Host computer IBM PC/AT (Windows®2000)

NEXIV VMR系列標配硬件
一、1、2、3型機的標配硬件
專為NEXIV VMR設計的、高品質專用物鏡
該物鏡數值孔徑高達 0.35,工作距離長達 50 毫米,經過專門的消畸變設計,可以充分保証工件視窗的窗內測量精度,特別適合於視頻圖象的精密坐標測量。
具有15 倍變焦比的光學頭
3 個型號(1、2、3 型)各自有 5 級放大倍率。15倍變焦比的5段自動變焦鏡組,可以在各段(倍率)間進行自由切換,以滿足低倍大視場觀察搜索和高倍精密測量兩方面的需求。
放大倍率與視場(毫米)
上述總放大倍率為17 英吋液晶顯示器,設置為 SXGA(1280×1024)模式時,顯示器屏幕上的放大倍率。
已升級的TTL 激光自動對焦裝置
該裝置具有對焦速度快、工作距離長、測量精度高的特點,它可以在低倍條件下實現對具有高度差的狹窄區域的自動對焦。它還可以進行每秒1000 點的高速掃描,實現多種高精度 Z 軸掃描測量。
TTL激光自動對焦裝置的構成
用激光掃描得到的錫球表面(三維鳥瞰顯示)
高速高精度影象自動對焦
由於採用了新的圖象數據處理時序以及逐行掃描CCD,使影象自動對焦具有更高的速度和準確度。影象自動對焦適用於不能使用 TTL 激光自動對焦的場合,例如對傾斜度較大的斜面以及迴轉體外側邊界的對焦。利用多重影象自動對焦功能,能夠同時測量視場內多個不同高度的點。
多種照明方式
VMR 系列有多種照明方式可供選擇,能夠為工件提供理想的照明,這包括:
八方向獨立可控LED環形斜照明,分內外兩層照明環,其中:
內環照明(與光軸的夾角為 37度);
外環照明(與光軸的夾角為 75度)。
反射照明(頂部光);
透射照明(底部光)。
8方向LED環形照明
先進的照明手段,使您能夠看清通常不易看清的邊界,從而可以準確地檢出邊界。此外,VMR系列的照明條件可以程序控制、記憶,編輯也很方便,可以做多語句同時指定。
二、高倍機的標配硬件
新開發的高倍頭 VMR-Z120X
這種新的鏡頭組,通過使用可以相互切換兩個物鏡與變焦頭的有機組合,實現從 1倍到 120 倍的光學放大倍率。該系統在高倍下具有非常高的工件視窗窗內測量重複精度,8 級放大倍率總能使您能找到一個合適的倍率,並且可以實現從低倍大視場搜索,直到最小測量線寬約為1 微米的高倍觀察與精密測量。
放大倍率與視場(毫米)
上述總放大倍率為 17 英吋液晶顯示器,設置為 SXGA(1280×1024)模式時,顯示器屏幕上的放大倍率。
低放大倍率
1X
2X
4X
7.5X
高放大倍率
16X
32X
64X
120X(線寬6微米)
細光束、高分辨率 TTL 激光自動對焦裝置
TTL激光自動對焦裝置的構成
該裝置配備有高數值孔徑的物鏡,具有激光光束細、光斑直徑小的特點,能夠進行超小激光光點測量。能夠顯著提高在纖薄的透明或半透明材料(如光阻材料)表面,或不規則反射面上對焦及掃描的性能。可以以最大為每秒1000 點的速度進行高速掃描測量,從而在多種應用中實現超高精度 Z 軸測量。
64X
120X(線寬6微米)
三種照明類型
通過三種 CNC 可控照明____高倍垂直反射與透射、暗場照明,可以向各種工件提供最佳的照明,從而確保各種待測邊界可被準確、可靠地探測。
三、LU型機的標配硬件
CFI60 光學系統使用代表了尼康光學技術的最高水平的CFI60 光學系統,能攝取明亮的、高對比度的圖象,使系統更加適合於大型液晶顯示板及其彩色濾色片的測量。該系統既能通過圖象處理技術實現工件的尺寸測量,又能用於觀察目的。此外,它還可以通過使用高對比度DIC,增強DIC 成象能力。
LU型光學頭 LU型用CFI60系列物鏡群
通用電動物鏡轉換器
通過對電動物鏡轉換器的操控,CNC 測量程序可以改變放大倍率,並為顯微觀察選擇最優放大倍率以及最佳的物鏡。
從測量到數據處理的自動控制
易於使用的軟件可控制系統所有的功能,從各種照明的控制,到圖象處理以及載物台的移動,測量過程實現自動化控制,確保測量結果的準確一致。使用 LU 型時,以下操作需要手動進行:明場與暗場照明的切換;視場光闌及孔徑光闌的設置;起偏器*、檢偏器*與Nomarski 稜鏡的設置。但此項是有電動型選配件的。
電動旋轉起偏器/檢偏器(選配)
可選配的電動旋轉起偏器/檢偏器使操作人員能夠根據工件情況優化圖象對比度。這樣在進行 DIC 成象時,可以看到更加明顯的微分干涉效果。

各種 CFI60 物鏡
CFI60 光學系統最大限度地抑制了雜光,並具有數值孔徑(N.A.)高和工作距離(W.D.)長的特點,所以能夠攝取明亮的、高對比度的圖象。VMR 系列可使用包括 CFI LU 平場 BD在內的各種 CFI60 通用物鏡鏡頭。

   *使用EPI系列物鏡時, 需使用LU物鏡轉接環。
LCD觀測用CFI物鏡

   *工作距離與玻片厚度較正環的定位有關。
放大倍率及視場大小

   *出廠選件為0.5x鏡筒透鏡或1.0x鏡筒透鏡
LCD 物鏡鏡頭的作用
請比較使用平場EPI物鏡和LCD物鏡,隔着玻璃時的觀察效果。使用LCD觀測用CFI物鏡,即便是隔着玻璃,圖象依然清晰可見。
使用平場EPI物鏡鏡頭
使用LCD物鏡鏡頭

Nomarski DIC 圖象

CFI  LU平場BD 20x 物鏡
採用 DIC 顯微朮,微小的高度差可以呈現為明亮的高對比度圖象,所以能夠觀察 ACF(各向異性導電膜)焊接過程中的顆粒分布情況。

暗場圖象

CFI  LU平場BD 50x 物鏡

付款方式︰面談

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日本尼康NIKON非接觸式三次元 1
圖 1

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