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擴散爐是半導體器件及大規模集成電路製造過程中用於對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝的一種熱加工設備。其組成有：加熱爐（擴散爐主機）、淨化工作台、送片系統（推拉舟系統）、氣源系統、控制系統等。

1、全中文操作界面，可編輯參數，操作簡便。

2、可保存多條工藝曲線，每條曲線可設置多步。

3、工藝曲線的自動運行控制功能。

4、自動運行中可暫停/繼續運行功能。

5、工藝中可強制跳到下一工藝步運行功能。

6、智能昇降溫斜率控制功能。

7、PID參數自整定功能。

8、可存儲多組PID參數供系統運行調用功能。

9、系統故障的檢測與報警功能。

10、系統誤差修正（單點或多點動態修正功能）。

11、智能懸臂推拉舟控制功能。

12、工藝氣體的程序控制功能（電磁閥/質量流量控制器）。

13、停電后斷點繼續運行功能等等。

該系統可根據用戶的特殊要求增減或開發相應的功能。

擴散爐主機主要技術指標：

    可配工藝管外徑：2-8英吋

    可配工藝管數量：1-4管/台

    工作溫度範圍：400-1300℃

    恆溫區長度及精度：300-1000mm   800-1300℃±0.5℃

    單點溫度穩定性：800-1300℃±0.5℃/24h

    最大可控升溫速度：15℃/min

    最大降溫速度：5℃/min