型號: | - |
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品牌: | 科的 |
原產地: | 中國 |
類別: | 工業設備 / 其他工業設備 |
標籤︰ | 高純氣體 , 四氟化碳 , 佛山科的 |
單價: |
¥100
/ 瓶
|
最少訂量: | 1 瓶 |
即時通訊: | 最後上線︰2013/06/29 |
型號/牌號 | 科的 | 產商 | 佛山科的 |
用途級別 | 分析純 | 含量 | 99.999(%) |
四氟化碳(CF4)
項目 |
指標純度% |
|||
四氟化碳(CF4) |
99.999% |
99.9997% |
99.99994 |
|
雜質含量
|
氮氣 |
﹤5ppm |
﹤1ppm |
|
氧氣 |
﹤2ppm |
﹤0.5ppm |
﹤100ppb |
|
氬氣 |
- |
- |
﹤20ppb |
|
氫氣 |
- |
﹤0.5ppm |
﹤100ppb |
|
總烴 |
﹤1ppm |
﹤0.1ppm |
﹤50ppb |
|
一氧化碳 |
﹤1ppm |
﹤0.1ppm |
﹤50ppb |
|
二氧化碳 |
﹤1ppm |
﹤0.25ppm |
﹤100ppb |
|
水 |
﹤2ppm |
﹤1ppm |
﹤200ppb |
主要用途:
在常溫下,四氟化碳是無色、無臭、不燃的可壓縮性氣體,揮發性較高,是最穩定的有機化合物之一,在900℃時,不與銅、鎳、鎢、鉬反應,僅在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比),然而與可燃性氣體燃燒時,會分解產生有毒氟化物。
四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合氣,可廣氾應用於硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、洩漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。
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