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產品技術支持	型號	平均粒徑（nm）	純度 （%）	比表面積（m2/g）	體積密度（g/cm3）	晶型	顏色
與高校合作開發	CW002	1000	>99.999	12.3	2.20	α	淺白色

我公司與國內外高校合作開發的坩堝用脫模劑粉，主要成分是高純度α相氮化硅粉末（α相>95.0%）。粉體純度高、粒度分布均勻，α相含量高且穩定，鐵含量低（<10ppm）目前主要用在冶煉單晶及多晶鑄錠的石英坩堝上面，起到脫模作用，可以使坩堝多次重複使用，節省企業生產成本。

主要應用於多晶硅和單晶熔煉過程中，石英坩堝脫模用。多晶硅和單晶硅生產時，在原料熔化、晶體生長過程中，硅熔體和坩堝長時間接觸會產生黏滯性。由於兩種材料的熱膨脹係數不同，如果硅材料和坩堝壁結合緊密，在晶體冷卻時很可能造成晶體硅或坩堝破裂。而硅熔體和坩堝的長時間接觸還會造成陶瓷坩堝的腐蝕，使多晶硅中的氧濃度升高。為了解決這些問題，國外工藝上一般採用高純氮化硅材料作為塗層附在坩堝的內壁，隔離硅熔體和坩堝的直接接觸，不僅解決了黏滯問題，而且可以降低多晶硅中的氧、炭等雜質濃度。利用定向凝固技術生長的鑄造多晶硅，多數情況下坩堝是消耗品，不能重複循環使用，即每爐多晶硅都需要消耗一只陶瓷坩堝。採用氮化硅塗層后可使石英陶瓷坩堝得到重複使用，大幅度降低生產成本我公司根據多晶硅和單晶硅生產工藝特點，開發銷售了石英坩堝專用脫膜劑及相關噴塗工藝。坩堝用脫模劑粉粒度在0.5-1.2微米之間，可以有效地解決在塗層高溫固化過程中的氧化問題，使多晶硅和單晶硅的純度獲得大幅度提高，其粉末的純度可達99.999％以上,可用作光伏工業中熔煉多晶硅鑄錠的石英坩堝塗層材料。可有效防止坩堝內壁與熔融硅料粘接，方便脫模，同時起到阻隔層作用，保証硅錠純度。與納米氮化硅或其他類型脫模劑相比，具有優異的抗氧化性能，確保生產過程中碳、氧、鐵等雜質濃度獲得有效控制。產品純度高，粒度均勻，性能上完全可與國外同類產品相比較，目前已實現批量化生產。因此可以解決目前國內的石英坩堝塗層粉完全依賴日本UBE、德國Starck等進口，且有較大成本優勢。

公司可以提供坩堝用脫模劑粉在坩堝噴塗中的應用技術支持，具體應用咨詢請與銷售部人員聯繫。

本品為惰氣包裝，應密封保存於乾燥、陰涼的環境中，不宜長久暴露于空氣中，防受潮發生團聚，影響分散性能和使用效果。