| 型號： | W-200-HFMK II |
|---|---|
| 品牌： | 日本本多(HONDA) |
| 原產地： | 日本 |
| 類別： | 工業設備 / 通用機械 / 清洗、清理設備 |
| 標籤︰ | 本多 , 超聲波 , 清洗機 |
| 單價： |
-
|
| 最少訂量： | 1 件 |
| 即時通訊: | 最後上線︰2012/05/19 |
本多超聲波清洗機W-200-HFMK II 適合細膩的清洗
因為中頻清洗，對工件損傷很少。並且和低頻清洗相比，具有清洗效果均勻，噪音小的特點。
容易清洗微小的贓物
適合於清洗硬盤，半導體，液晶等微小的贓物。
適合於染色，脫氣，溶解，攪拌等用途
使用於磁頭，鏡片等的染色和脫氣，化學品的溶解和攪拌等。
型號：W-200-HFMK II T
振盪方式：單頻振盪
最大功率：200W(可調整功率)
振盪頻率：200KHz
振盪器電源：AC100V/6A、AC200、220V/3A
(定貨時選擇)
外形尺寸(mm)W×D×H：3000×430×140
使用液溫範圍：50℃
換能器類型：投入型換能器、振動板型換能器
