型號: | DS-2000/1.0 |
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品牌: | - |
原產地: | 中國 |
類別: | 電子、電力 / 其它電力、電子 |
標籤︰ | 無掩膜光刻 , 無掩模光刻 , 光刻機 |
單價: |
¥580000
/ 台
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最少訂量: | 1 台 |
即時通訊: | 最後上線︰2015/02/07 |
DS-2000/1.0型無掩膜光刻機
無掩膜光刻機技術性能介紹
型號:DS-2000/14
1.技術特征
採用DMD作為數字掩模,像素1024´768
採用14倍縮小投影光刻物鏡成像,一次曝光面積約1mm×0.75
採用專利技術——積木錯位蠅眼透鏡實現均明。
採用進口精密光柵、進口電機、進口導軌、進口絲杠實現精確工件定位和曝光拼接,可適應100mm´100mm基片。
採用CCD檢焦系統實現整場調平、自動逐場調焦或自動選場調焦曝光。
具備對準功能
2.技術參數
光源:350W球形汞燈(曝光譜線: i線);
照明均勻性:±2%;
物鏡倍率:14倍
曝光場面積:1mm×0.75mm
光刻分辨力:1 μm
工件台運動範圍:X:100mm、 Y:100mm;
工件台運動定位精度:±0.65μm;
調焦台運動靈敏度:1μm;
對準精度:±2μm;
調焦台運動行程:6mm
檢焦:CCD檢測,檢測精度2微米
轉動台行程:±6°以上
基片尺寸 外徑:Ф1mm—Ф100mm,厚度:0.1mm--5mm
3.外形尺寸:840mm(長)450mm(寬) 830mm(高)