產品描述
無掩模光刻機
無掩膜光刻機型號 DS-2000/1.0型
1．技術特征採用DMD作為數字掩模，像素1024×768
採用1倍縮小投影光刻物鏡成像，一次曝光面積約14mm×10mm
採用專利技術——積木錯位蠅眼透鏡實現均明。
採用進口精密光柵、進口電機、進口導軌、進口絲杠實現精確工件定位和曝光拼接，
可適應100mm×100mm基片。
2．技術參數
光源：350W球形汞燈（曝光譜線： i線）；
照明均勻性：±2%；物鏡倍率：1倍
曝光場面積：14mm×10mm 光刻分辨力：14μm
工件台運動範圍：X：100mm、 Y：100mm；
工件台運動定位精度：±1.5μm；
調焦台運動靈敏度：1μm；
調焦台運動行程：6mm 轉動台行程：±6°以上
基片尺寸外徑: Ф15mm—Ф100mm，
厚度：0.1mm--5mm
3．外形尺寸：840mm（長）×450mm(寬) ×830mm（高）
無掩模光刻機系統關鍵技術：曝光光學系統、光勻化技術、圖形發生器、投影物鏡、對焦系統、對準系統、精密工件台、步進拼接、控制軟件等
產品圖片
圖 1
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