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立式擴散爐

設備用途：

   CL系列的立式擴散爐為我公司根據客戶需求定製的專用設備，用於太陽能電池片生產過程中對硅片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，該設備具有：關鍵部件進口、自動化程度高、溫度均勻、控制穩定、壽命長等特點，是理想的科研及生產設備。

設備主要技術指標：

1. 外型形式：單管立式，加熱；爐體和石英管可單獨自動昇降定位 

2. 硅片尺寸：156*156方片/准方片

3. 工作溫度範圍：400-1200℃

4. 恆溫區精度：±0.5℃/300mm

5. 恆溫區長度：≥300mm，單次可裝載10片156*156方形硅片，背靠背裝片模式，配石英舟

6. 擴散方式：設備配置真空系統，支持負壓擴散方式

7. 氣路系統：三路氣體系統，採用進口MKS質量流量計、氣動閥、等進口部件

8. 溫度控制系統：PLC+觸摸屏可編程控制方式，自動加手動可方便切換，溫控系統採用進口高精度溫控儀，溫度、流按工藝自動調節

9. 報警及保護：超溫、斷偶、缺水及真空異常系統自動報警及保護

10. 尾氣處理：設備配備尾氣處理系統，採用溶液吸收發吸收尾氣中的有害成分

11.冷卻系統：設備配有冷水系統，用於保護密封裝置及冷卻加熱器外殼

我公司可根據客戶要求，專業定製各式擴散爐、退火爐、燒結爐、真空焊接爐、CVD爐、加熱

電爐及加熱裝置等，歡迎廣大客戶來電咨詢。