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高純三氧化二鋁靶

化學符號：Al2O3 

純度：5N
規   格：Φ50.8*5，Φ76.2*5,Φ101.6*5等其他規格可根據客戶需求定做！
分 子 量：101.96 
密    度：4g/cm3
熔    點：2045℃ 
沸    點：2980℃
蒸發溫度：1800℃ 
蒸發方式：電子束 
透明範圍/nm：200-7000
折射率n（波長/nm）：1.59(600)/1.56(1600)
             基片溫度為300℃時，λ=600nm,n=1.62；λ=1.6μm,n=1.59；
             基片溫度為40℃時， λ=600nm,n=1.59；λ=1.6μm,n=1.56；
蒸發源材料:W 、Mo 
溶 解 于：純酸、碱
薄膜的機械和化學性質：形成光滑的硬膜
性    能：高純氧化鋁具有耐腐蝕、耐高溫、高硬度、高強度、抗磨損、抗氧化、絕緣性好和表面積大等特點；不溶于水，微溶于強酸和強碱溶液，並能被氫氟酸和硫酸氫鉀浸蝕；
高純超細氧化鋁的優點：純度高、粒徑小、密度大、高溫強度大、耐蝕性和易燒結；
應    用：增透膜，多層膜，防反膜，眼鏡膜，保護膜
用    途：廣氾應用於生物陶瓷、精細陶瓷、化工催化劑、稀土三基色熒光粉、集成電路芯片、航空光源器件、濕敏性傳感器及紅外吸收材料；