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銅靶

化學符號：Cu 
原 子 量：63.546
外觀純銅：紫紅色金屬 
熔    點：1083.4℃
沸    點：2567℃ 
密    度：8.92g/cm3
蒸 發 源（絲、片）：鎢、鉭、鉬、鈮 
坩    堝：Mo、C、Al2O3
在10-4Torr蒸發溫度：1017℃  
薄膜的機械和化學性質：膜層附着不好，利用中間層Cr可增加附着力；
應    用：保護膜，反射膜，增透膜 

靶材形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環，圓管，臺階圓片，臺階矩形，其他規格根據客戶要求定做. 提供規格的銅靶托、鉬靶托、鋁靶托、鈦靶托；提供金屬靶材,合金靶材,陶瓷靶材的背面金屬化服務；提供金屬靶材,合金靶材,陶瓷靶材與靶托的綁定服務。

本公司長期供應4N高純銅靶，5N高純銅靶，6N高純銅靶高純銅，高純銅靶材，高純銅絲，高純銅粒，高純銅柱，高純銅板，銅錠，銅帶，銅箔，銅粉，銅型材，純度4N-6N，平面靶材，磁控濺射旋轉靶材。本公司擁有國內外先進的技術設備，和高端的技術人員，通過真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等技術，專業研發製造高純度靶材，我們的靶材純度高，緻密度高，放氣量小，晶粒細，成膜質量好，價格優惠，歡迎新老客戶至電咨詢！

1.各種高純度金屬單質包括金屬粉、金屬顆粒、金屬絲、金屬塊、金屬片等。產品包括：純鐵，銅，鋁，鉛，鋅，鎳，錫，鈷，鉻，釩，錳，鎂，鎘，鉍，銻，鈦，鋯，鉿，銦，硒，碲，鎵，鍺，錸，鎢，鉬，鉭，鈮，硼，硅，鈹，砷，貴金屬等的錠，棒材，絲材，板材，帶材，箔材，顆粒，粉末。

2.各種高純金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材、鍍膜材料。

金屬靶材：鋁靶Al、銀靶Ag、鈷靶Co、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶Zr、鈦鋁靶Ti、鋯靶Zr、鉭靶Ta、鍺靶Ge、硅靶Si、鎢靶W、鉿靶Hf、釓靶Gd、釤靶Sm、鏑靶Dy、鈰靶Ce、釔靶Y、鑭靶La  金靶Au 等。

合金靶材：鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁  V-Al 、 鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe等。

 陶瓷靶材
??ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、等陶瓷靶材。

用途：產品通過各種方法（磁控濺射、真空鍍等）應用真空鍍膜的各種領域：科學研究，航天航空，汽車，微電子，集成電路產業，光源，光學，裝飾，平面顯示器產業，信息存儲產業，數據存儲等等。       注：所有產品可根據客戶要求定做。

石久高研金屬材料有限公司真誠期待與您的合作！