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表面處理：表面處理在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。

等離子金屬表面改性：

1. 提高金屬表面的附着力

2. 提高金屬表面抗腐蝕能力

3. 提高金屬的硬度和磨損特性

真空鍍膜：

一種由物理方法產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術最先用於生產光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手錶外殼鍍仿金色，機械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也採用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

離子鍍：

蒸發物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技術的結合。將基片台作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體以產生輝光放電。從蒸發源蒸發的分子通過等離子區時發生電離。正離子被基片台負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用和離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附着強度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附着力)工藝的特點，並有很好的繞射性，可為形狀複雜的工件鍍膜。

離子鍍膜流程：