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硅鋁噴塗靶材 高純4~6N SiAI靶材 玻璃鍍膜材料 可定製 1硅鋁噴塗靶材 高純4~6N SiAI靶材 玻璃鍍膜材料 可定製 2硅鋁噴塗靶材 高純4~6N SiAI靶材 玻璃鍍膜材料 可定製 3
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硅鋁噴塗靶材 高純4~6N SiAI靶材 玻璃鍍膜材料 可定

型號:定制型
品牌:拓吉泰
原產地:中國
類別:化工 / 無機原料 / 氧化物
標籤︰硅鋁靶材 , 真空鍍膜靶材 , 磁控濺射靶材
單價: ¥40000 / 根
最少訂量:1 根
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產品描述

噴塗硅鋁靶材 Spray SiAl Target

產品說明Product description

以等離子體為熱源,在大氣環境下通過一定的氣氛保護裝置,將Si+Al粉末加熱到熔融或半熔融狀態並高速衝擊背管表面形成緻密塗層,從而制備出高純度、低氧含量、高緻密度SiAl靶材。
With plasma as the heat source, high purity, low oxygen content, high density SiAl targets are produced by using Si and Al powders. The starting Si and Al powders are heated to molten or semi-molten state with the protection of certain atmosphere and sprayed on the surface of backing tube at high speeds to form dense coatings.

項目 Item

參數 Specifications

檢測手段

Testing method

純度 Purity

99.9%

 

Al含量 Al Content

8-10%

 

密度 Density

2.2 g/cm3 

 

雜質含量 Impurities

Fe: 350 ppm

Ca: 50 ppm

Cu: 50 ppm

Mg: 20 ppm

Ni: 20 ppm

O: 6000 ppm

N: 500 ppm

雜質總和(ON除外): 1000 ppm

Total impurity (excluding O, N)

ICP

氧氮分析儀 

Oxygen and nitrogen analyzer

 

電阻率 Electrical resistivity

50 mΩ∙cm

四探針電阻率儀

Four-probe resistivity meter

背管材質 Backing tube

-選用304/316L不鏽鋼(無磁)

304/316L stainless steel (non-magnetic)

 

靶材尺寸Dimension

-按照圖紙要求加工 

According to customized drawings

 

應用領域Applications

-用於製作SiO2膜、Si3N4膜,主要用於光學玻璃AR膜,LOW-E鍍膜玻璃半導體電子器件,TFT-LCD平面顯示觸摸屏玻璃

For deposition of SiO2 and Si3N4 films, which are used for AR films of optical glasses, LOW-E glasses, electronic devices, TFT-LCD, flat panel screens, touch screen glasses.


產品圖片

硅鋁噴塗靶材 高純4~6N SiAI靶材 玻璃鍍膜材料 可定製 1
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硅鋁噴塗靶材 高純4~6N SiAI靶材 玻璃鍍膜材料 可定製 2
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硅鋁噴塗靶材 高純4~6N SiAI靶材 玻璃鍍膜材料 可定製 3
圖 3

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