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品牌: | - |
原產地: | 中國 |
類別: | 工業設備 / 電子電氣產品製造設備 |
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最少訂量: | - |
最後上線︰2024/09/07 |
擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業,對所加工的硅
片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統、 控制系統、超淨化操作系統等組成。選用工控機微控方式或者程控方式操作。
擴散爐技術指標:
可處理硅片尺寸:2—12英吋
外型形式:臥式1—4管結構
工作溫度:200℃—1300℃
恆溫區長度及精度:200mm—1100mm≤±0.5℃
單點溫度穩定性、重複性:≤±1℃/24h
溫度斜變:可控升溫速率15℃/min
可控降溫速率:5℃/min
送片裝置:手動推拉
氣路系統:1—5路工藝氣體/管
氣體控制:手動浮子流量計
控制方式:程控