In-Line Sputter 連續式濺鍍設備系統
產品描述
In-Line Sputter 連續式濺鍍系統：
用於：抗電磁波（EMI）、產品裝飾膜（NCVM）、被動元件（Chip R)、觸控熒 （T.P）彩色慮光片（C.F）、顯示器（TFT;OLED)、薄膜太陽能電池（Solar cell)等
Inter Back Sputter 往復式濺鍍式設備：
用於：半導體後段封裝（UBM)、抗反射膜（AR)、RD製程開發設備
產品圖片
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