| 型號： | - |
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| 品牌： | - |
| 原產地： | 美國 |
| 類別： | 工業設備 / 電子電氣產品製造設備 |
| 標籤︰ | 紫外光刻機 , 曝光機 , 光刻機 |
| 單價： |
-
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| 最少訂量： | - |
| 即時通訊: | 最後上線︰2012/06/18 |
產品系列包括經濟型臺式光刻機、高精度半自動和高精度全自動模式。
能力 | 數值 |
X, Y方向運動距離 | +/ |
Z方向運動距離 | +/-1250微米 |
運動增益 | 0.25微米，最小可達0.1微米 |
X, Y方向側向偏離度 | Z方向運動100微米偏離度小於0.1微米 |
Theta; 精度 | +/-3°；0.001° |
卡盤找平 | 楔形補償平衡系統 |
光罩旋轉 | +/-15° |
光罩和基片間壓力 | 可以自行設置 |
光刻模式 | 靠近、軟接、硬接和真空接觸 |
預對準能力 | 是 |
精對準能力 | 小於1微米 |
光罩尺寸 | 最大 |
光刻能力： | 0.6微米（近紫外）；0.4微米（中紫外）；0.25微米（深紫外） |
適用樣品尺寸 | 50 ～ |
