| 型號： | - |
|---|---|
| 品牌： | - |
| 原產地： | - |
| 類別： | 電子、電力 / 儀器、儀表 / 實驗儀器裝置 |
| 標籤︰ | 納米壓印光刻機 , NIL光刻機 , 熱壓印 |
| 單價： |
-
|
| 最少訂量： | - |
| 即時通訊: | 最後上線︰2019/04/16 |
請選擇合適的型號
|
NX-B100多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印） |
zui大75毫米直徑壓印面積 熱壓印 加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘 |
|
NX-B200多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印和紫外壓印） |
zui大75毫米直徑壓印面積 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>200℃/分鐘 制冷速度>60℃/分鐘 58mW/cm2紫外LED光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制 |
|
NX-1000多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印） |
標配4英吋,6或8英吋壓印面積可選 熱壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘 |
|
NX-2000多功能整片基板納米壓印系統（熱壓印和紫外壓印） |
標配4英吋,6或8英吋壓印面積可選 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘 200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制 |
|
NX-2500 多功能整片基板帶對準功能多層次的納米壓印系統 |
標配4英吋,6或8英吋壓印面積可選 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘 200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制 帶對準功能（亞1微米對準精度） 多層次的納米壓印 對準模塊 <1μm 3σ對準準確率 X, Y, Z, Theta平台 分場光學和CCD相機 |
|
NX-2600 多功能整片基板帶對準功能多層次的納米壓印和高分辨率光刻系統 可選背面對準 |
標配4英吋,6或8英吋壓印面積可選 熱壓印和紫外壓印 加熱速度>300℃/分鐘 制冷速度>150℃/分鐘 200W窄帶紫外光源；365納米或395納米波長可選；全自動化控制 帶對準功能（亞1微米對準精度） 多層次的納米壓印 對準模塊 <1μm 3σ對準準確率 X, Y, Z, Theta平台 分場光學和CCD相機 標配5”模板,標配4”直徑基板 其他尺寸可以提供500瓦紫外水銀燈光源 |
|
Lumina200多功能高精度光刻機 |
4寸基板，5寸掩膜 |
|
Ultra-100多功能集成清潔和單分子層氣態鍍膜系統 |
Pieces to Full Wafers (2”, 3”, 4”, 6” or 8” OD, etc) Up to 8”×8” |
