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平面磁控濺射靶

型號:SP100
品牌:-
原產地:中國
類別:工業設備 / 通用機械 / 泵及真空設備
標籤︰平面磁控靶 , 磁控靶 , 濺射陰極
單價: ¥30000 / 件
最少訂量:1 件
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深圳市钬彩科技有限公司

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產品描述

矩形平面靶的磁場方向與靶面陰極平行,形成環形磁場,該磁場與電場E正交.當真空室內充入氬氣后,便被電離放電,放電產生的A+r離子轟擊陰極(靶)的表面.二次電子e1受磁場B的洛侖茲力作用,沿垂直于磁力線方向運動(如圖3所示).這些電子運動路徑長,增加了氣體分子磁撞的機會,使氣體的電離几率增加,進而增大了濺射速率。

矩形平面靶的特點是結構簡單,通用性強,膜層均勻性與重複性好,離化率相對其他方式的要高一些.但缺點是靶材的利用率低,一般約為20%左右.當輝光區,即磁力線分布區域的靶材消耗到一定程度時,將形成條形凹坑,靶材體變薄,凹坑深度達到一定程度時,靶材就不能繼續使用。

目前針對貴金屬,平面靶採用特殊磁場設計,可以做到40%以上的利用率。

常用規格:靶面寬度60-80-120-160  長度200-1600之間。


產品圖片

平面磁控濺射靶 1
圖 1
平面磁控濺射靶 2
圖 2
平面磁控濺射靶 3
圖 3
平面磁控濺射靶 4
圖 4

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