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圓柱濺射靶

型號:C70
品牌:-
原產地:中國
類別:工業設備 / 通用機械 / 泵及真空設備
標籤︰圓柱磁控靶 , 柱靶 , 磁控靶
單價: ¥12000 / 件
最少訂量:1 件
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根據靶材的形狀,磁控濺射靶可分為圓形磁控濺射靶、平面磁控濺射靶和柱狀磁控濺射靶。圓形靶主要用於科研和少量的工業應用,平面靶和柱狀靶在工業上廣氾使用,特別是柱狀靶,憑借超高的靶材利用率和穩定的工作狀態,越來越多的被使用。

1、非金屬基片清洗:清洗基片表面污染物(氧化物、含碳氫化合物等)、增加膜基結合力、減少基底缺陷、增加基片表面能等。

2、 提高氣體離化率:對工作氣體進行離化,作為磁控濺射過程中的離子輔助沉積,同時提高膜層粒子在表面的遷移、擴散能力,有利於形成緻密的膜層組織。

3、沉積膜層:直接沉積DLC和光學膜、氧化物、氮化物等。

 


產品圖片

圓柱濺射靶 1
圖 1
圓柱濺射靶 2
圖 2
圓柱濺射靶 3
圖 3

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