| 型號： | - |
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| 品牌： | - |
| 原產地： | 美國 |
| 類別： | 工業設備 / 電子電氣產品製造設備 |
| 標籤︰ | RIE刻蝕 , ICP刻蝕 , 等離子刻蝕 |
| 單價： |
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| 最少訂量： | - |
| 即時通訊: | 最後上線︰2012/06/18 |
RIE ICP等離子刻蝕機，反應離子刻蝕，感應耦合等離子刻蝕--北京特博萬德科技有限公司
適用於Si,SiO2,金屬，III-V,有機物等材料的刻蝕，系統有多達七種工藝氣體可以用於刻蝕氮化物、氧化物以及任何需要氟基化學刻蝕的薄膜或基片（如碳、環氧樹脂、石墨、銦、鉬、氮氧化物、聚酰亞胺、石英、硅、氧化物、氮化物、鉭、氮化鉭、氮化鈦、鎢以及鎢鈦）
型號有經濟型和高端型，有科研應用的型號和小規模及大規模生產的型號，產品性價比高。歡迎您的來電索取相關產品資料。
