| 型號： | SI500 |
|---|---|
| 品牌： | SENTECH |
| 原產地： | 德國 |
| 類別： | 電子、電力 / 其它電力、電子 |
| 標籤︰ | 刻蝕機 , sentech刻蝕機 , RIE/ICP刻蝕 |
| 單價： |
-
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| 最少訂量： | 1 件 |
| 即時通訊: | 最後上線︰2022/10/30 |
系統配置:
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編號 |
設備配置 |
具體指標 |
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1 |
晶片尺寸 |
8"，使用載盤可以適用於2", 3", 4", 6" 晶圓, 以及小片樣品) |
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2 |
等離子源 |
PTSA ICP等離子源 13.56 MHz, 功率1200 W 集成自動匹配網絡 |
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3 |
射頻偏置電源 |
13.56 MHz, 600 W |
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4 |
電極溫控 |
-30?C ~ 250?C （低溫可選-150 ?C） |
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5 |
反應腔本底真空 |
≤ 1 x 10-6 mbar |
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6 |
氣體管路 |
標準氣櫃***多可以配置16路氣體管道。（可以增加氣櫃） |
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7 |
PC |
Windows 7 Professional SENTECH高級等離子設備操作軟件 |
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8 |
預真空室 |
配置。 |
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9 |
He晶片冷卻 |
配置。 |
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10 |
機械鉗 |
配置。 |
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11 |
深硅刻蝕典型指標 |
- 刻蝕速率： 2~5 ?m/min - 選擇比(SiO2)： 90:1
特性: l 全自動/手動過程控制 l Recipe控制刻蝕過程 l 智能過程控制，包括跳轉、循環調用recipe l 多用戶權限設置 l 數據資料記錄 l LAN網絡接口 l Windows NT 操作軟件
選項: l 增加氣路 l PTSA源石英窗口 l 在線監測窗口，穿過PTSA源 l 循環冷卻器，用於下電極溫度控制 (-30?C to 80?C) l 高密度等離子體磁性襯板 l 對等離子源和磁性襯板的外部升高裝置 l Cassette到cassette操作方式 l 穿牆式安裝方式 l 干涉式終點探測和刻蝕深度測量系統 |
