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高純度貴金屬靶材，磁控濺射科研院校鍍膜鋨靶材Osmium (Os)鋨PVD鍍膜材料  

 

產品名稱：	鋨靶，鋨粒，鋨粉，鋨絲
牌號規格：	Os 1
用途 ：	主要用於電阻、繼電器、火花塞電極、電觸頭、熱電偶及印刷電路等

 

 

 

 

 

 

產 品 詳 情

貴金屬鋨及其合金在石油化學工業上主要作催化劑。

在電子電器工業上，作電阻、繼電器、火花塞電極、電觸頭、熱電偶及印刷電路等。

在玻璃工業上，金屬鋨不會使熔化的玻璃污染，可作為製造光學玻璃時的容器內襯。

鋨銥合金可以作鐘錶和儀器中的軸承，製造筆尖和唱針。

傳統上，鋨用來製作鋼筆尖，現在應用於生產磁控濺射鍍膜靶材。

 

鋨濺射靶材Osmium (Os)

形狀	圓形、方形
尺寸	Φ50~100mm
厚度	3~15mm
純度	≥3N5

注：其它尺寸可根據客戶要求製作。具體尺寸請聯繫銷售。

 

高純度稀有金屬錸靶材 磁控濺射靶材 Rhenium (Re) 錸鎢錸鉬合金靶板  PVD鍍膜材料

 

產品名稱：	錸靶 Rhenium (Re)
牌號規格：	Re1
用途 ：	主要用於高溫惡劣條件下的電極材料，宇宙航空設備的部件製造。

 

產 品 詳 情

錸是一種銀色金屬，由於錸的價格較高，因此在應用上受到了限制。可做為磁控濺射使用，常見的有錸板、錸坩鍋、錸顆粒、錸絲材；錸的合金有鎢錸合金（W-Re）、鉬錸合金(Mo-Re)。由於鎢錸、鉬錸合金有着優異的高溫強度和高溫塑性，為此基材製作的各種結構件，加熱器，異型零件被廣氾的應用於航天航空，原子能，超高溫合金，半導體磁控濺射，高溫熱場等業領域。

錸濺射靶材 Rhenium (Re)

形狀	圓形、片狀、坩鍋、顆粒、絲材
尺寸	根據要求定製
厚度	按要求定製
純度	≥4N

注：其它尺寸可根據客戶要求製作。具體尺寸請聯繫銷售。

 

高純度貴金屬 釕（Ru）磁控濺射鍍膜沉積靶材PVD鍍膜材料蒸發顆粒 科研實驗 尺寸定製

 

產品名稱：	釕（Ruthenium -Ru）濺射靶材
牌號規格：	Ru2
用途備註：	釕薄膜由於其獨特的物理、化學和催化性能，被廣氾用於電子、電氣和催化領域，例如垂直磁記錄媒介中的中間層、大規模集成電路中的銅擴散勢壘等

 

產 品 詳 情

   貴金屬釕薄膜由於其獨特的物理、化學和催化性能，被廣氾用於電子、電氣和催化領域，例如垂直磁記錄媒介中的中間層、大規模集成電路中的銅擴散勢壘等。本公司具有完善的靶材加工、質量控制和殘靶回收技術，能夠制備出滿足客戶不同需求的高品質大尺寸釕(Ru)濺射靶材。

規格尺寸
形狀	圓形、方形
尺寸	Φ10~200mm
厚度	3~15mm
純度	4N
注：其它尺寸可根據客戶要求製作。