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Carbon (C) 靶材濺射技術中的關鍵材料

碳靶材，作為濺射技術中的關鍵材料，以其卓越的電導和熱導性能在微電子電路製造與硬質塗層行業中佔據了舉足輕重的地位。這種材料不僅為現代科技的進步提供了堅實的基礎，還極大地推動了相關行業產品性能的提升。

我司專注研發與生產，鑄就行業精品。公司生產單材質靶材、電子束蒸發顆粒材料如下：

SINGLE ELEMENTS 單材質靶材、電子束蒸發顆粒
Aluminum (Al)	Nickel (Ni)
Antimony (Sb)	Niobium (Nb)
Arsenic (As)	Osmium (Os)
Barium (Ba)	Palladium (Pd)
Beryllium (Be)	Platinum (Pt)
Boron (B)	Rhenium (Re)
Cadmium (Cd)	Rhodium (Rh)
Carbon (C)	Rubidium (Rb)
Chromium (Cr)	Ruthenium (Ru)
Cobalt (Co)	Selenium (Se)
Copper (Cu)	Silicon (Si)
Gallium (Ga)	Silver (Ag)
Germanium (Ge)	Tantalum (Ta)
Gold (Au)	Tellurium (Te)
Hafnium (Hf)	Tin (Sn)
Indium (In)	Titanium (Ti)
Iridium (Ir)	Tungsten (W)
Iron (Fe)	Vanadium (V)
Lead (Pb)	Yttrium (Y)
Magnesium (Mg)	Zinc (Zn)
Manganese (Mn)	Zirconium (Zr)
Molybdenum (Mo)

材料特性：

碳靶材具備高純度、高密度以及高熔點的顯著優勢。高純度意味着碳靶材在制備過程中能夠最大限度地減少雜質含量，從而確保濺射薄膜的純淨度和一致性，這對於微電子電路中的精密元件尤為重要。高密度的特性則有助于提升靶材的濺射效率和穩定性，確保在鍍膜過程中能夠均勻、高效地沉積在基材表面。此外，碳材料的高熔點（如石墨的熔點高達3652ºC）使得靶材在高溫環境下依然能夠保持穩定的物理和化學性質，為高溫濺射工藝提供了可能。

• 行業領域應用：

1、在微電子電路製造領域，碳靶材的應用優勢尤為突出。隨着集成電路技術的不斷髮展，對薄膜材料的要求日益嚴格。碳靶材通過濺射技術制備的薄膜，不僅具有卓越的硬度，能夠有效抵禦外界的物理磨損和化學侵蝕，還顯著增強了電路的電性能，如導電性和信號傳輸速度。同時，高熱導性的特性有助于快速散熱，保護電路元件免受高溫損害，提高整體系統的穩定性和可靠性。因此，碳靶材在製造高性能集成電路、微處理器等關鍵電子元件中發揮着不可替代的作用。

2、在硬質塗層行業中，碳靶材同樣展現出了巨大的應用潛力。通過濺射技術在工具、模具等基材表面沉積一層均勻的碳薄膜，可以顯著提升其表面硬度和耐磨性，延長使用壽命，降低生產成本。特別是在高速切削、精密加工等領域，碳靶材制備的塗層工具已成為不可或缺的重要工具。

綜上所述，碳靶材以其優越的電導、熱導性能以及高純度、高密度、高熔點的材料特性，在微電子電路製造和硬質塗層行業中發揮着關鍵作用。它不僅提高了產品的整體性能，還推動了相關行業的持續進步和發展。隨着科技的不斷進步和應用領域的不斷拓展，碳靶材的市場前景將更加廣闊。

 

WC碳化鎢（Tungsten Carbide）靶材

碳化鎢（Tungsten Carbide），化學式WC，是一種高性能的磁控濺射靶材材料，廣氾應用於現代科技和工業生產的多個領域。以下是對碳化鎢靶材的基本介紹、物理性能及其在行業中的應用優勢的詳細闡述。我司專注技術研發與生產，鑄就行業精品。公司生產碳化物靶材材料如下：

CARBIDES 碳化物
Aluminum Carbide (Al4C3)	Tantalum Carbide (TaC)
Boron Carbide (B4C)	Titanium Carbide (TiC)
Chromium Carbide (Cr3C2)	Tungsten-Cobalt Carbide (WC-Co)
Hafnium Carbide (HfC)	Tungsten Carbide (WC)
Molybdenum Carbide (Mo2C)	Vanadium Carbide (VC)
Niobium Carbide (NbC)	Zirconium Carbide (ZrC)
Silicon Carbide (SiC)

1、碳化鎢靶材是一種黑色六方晶體，具有金屬光澤，其物理性能極為出色。首先，碳化鎢的密度高達15.63g/cm³，遠高于常見的金屬如鋁（2.70g/cm³）或鈦（4.51g/cm³）。這種高密度特性使得碳化鎢靶材在濺射過程中表現出較高的原子結合能，雖然濺射產率相對較低，但濺射出的粒子能量更高，有利於形成高質量的薄膜。其次，碳化鎢的熔點極高，達到2870℃，沸點更是高達6000℃，這使得碳化鎢靶材能夠在高溫環境下保持穩定，不易熔化或變形。此外，碳化鎢還具有良好的硬度和耐磨性，其顯微硬度可達到17300MPa，這使得碳化鎢靶材在刻蝕和薄膜沉積過程中能夠提供精確的控制，減少不必要的材料損失。

2、在化學性能方面，碳化鎢不溶于水、鹽酸和硫酸，但能溶于碳化鈦等碳化物中，以及硝酸-氫氟酸的混合酸中。碳化鎢還具有一定的導電性和導熱性，電阻率為19.2×10-6/K，這些特性使得碳化鎢靶材在電子器件的製造中具有廣氾的應用前景。

3、碳化鎢靶材的純度對其性能和應用效果至關重要。高純度的碳化鎢靶材能夠減少雜質對薄膜性能的影響，提高薄膜的質量和穩定性。一般來說，碳化鎢靶材的純度可達到99.9%以上，確保其在濺射過程中能夠提供高質量的薄膜。

4、碳化鎢靶材在半導體製造業中具有顯著的應用優勢。在光刻工藝中，碳化鎢靶材憑借其高密度、高硬度和低化學反應性，能夠提供精確的刻蝕控制，減少不必要的材料損失，確保電路圖案的精細度和完整性。同時，碳化鎢的高熔點和優異的抗腐蝕性使其在刻蝕過程中能夠承受極端的等離子環境，減少材料的降解和污染，提高良品率和降低製造成本。

5、在薄膜沉積技術中，碳化鎢靶材在物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）工藝中均發揮着重要作用。在PVD工藝中，碳化鎢靶材被高能量離子轟擊，蒸發並沉積在晶圓表面，形成緻密的碳化鎢薄膜。這種薄膜具有極高的硬度和耐磨性，能夠有效提升半導體器件的機械強度和耐用性。在CVD工藝中，碳化鎢靶材通過化學反應在高溫環境下沉積在晶圓表面，形成均勻的碳化鎢薄膜，確保器件的每一個角落都得到充分保護。

6、除了半導體製造業，碳化鎢靶材還在機械加工和工具製造領域得到廣氾應用。由於其卓越的硬度和耐磨性，碳化鎢靶材成為製造高性能切削工具和硬質合金刀具的理想選擇。碳化鎢刀具能夠在高強度切削過程中保持刀刃的鋒利度，有效應對高硬度工件材料的加工需求，同時延長刀具的使用壽命，提高生產效率。

7、在航空航天與國防工業中，碳化鎢靶材也發揮着重要作用。飛機零部件經常暴露在高溫、高壓和腐蝕性環境中，碳化鎢靶材提供的塗層能夠有效保護關鍵部件，減少磨損，延長使用壽命。在軍事防護領域，碳化鎢靶材因其極高的硬度和密度，成為製造防護裝甲的優選材料，能夠有效抵禦高動能穿甲彈和破片的襲擊。

綜上所述，碳化鎢靶材作為一種高性能的磁控濺射靶材材料，具有出色的物理性能和化學穩定性，在半導體製造業、機械加工和工具製造以及航空航天與國防工業等多個領域具有廣氾的應用前景和顯著的優勢。隨着技術的不斷進步和研究的深入，碳化鎢靶材的應用範圍還將進一步擴大，為現代科技的發展提供更有力的支持。

 

碳化鈦TiC（Titanium Carbide）

碳化鈦（Titanium Carbide，簡稱TiC）靶材作為一種高性能的磁控濺射靶材材料，在材料科學和工程領域展現出了廣氾的應用前景和獨特的優勢。以下是對碳化鈦靶材的基本介紹、物理性能以及行業應用優勢的詳細闡述。我司專注技術研發與生產，鑄就行業精品。公司生產碳化物靶材材料如下：

基本介紹

碳化鈦靶材是一種由鈦和碳元素組成的化合物，其化學式為TiC，分子量為59.89。這種材料通常以灰色金屬粉末或塊狀形式存在，具有立方晶系結構。碳化鈦靶材採用常壓燒結、氣氛燒結、熱等靜壓燒結等工藝制備而成，通過嚴格控制原料的純度、成分及成型坯料的設計尺寸，坯料經過精密機械加工后成為靶材。此外，碳化鈦靶材還可以根據客戶的要求定製加工特殊摻雜比例的靶材。

物理性能

1、純度：碳化鈦靶材的純度通常可達99.9%以上，高純度靶材能夠確保鍍膜的質量和性能。

2、密度：碳化鈦的密度為4.93 g/cm³（在25℃下測量），這一密度值使得碳化鈦靶材在磁控濺射過程中具有良好的穩定性和均勻性。

3、熔點：碳化鈦的熔點高達3140℃，這一高熔點特性使得碳化鈦靶材在高溫環境下仍能保持其物理和化學性質的穩定性。

4、硬度：碳化鈦的硬度極高，僅次於金剛石，這使得碳化鈦靶材成為理想的耐磨材料。

5、化學成份：碳化鈦由鈦和碳元素組成，其中鈦和碳通過離子鍵、共價鍵和金屬鍵混合在同一晶體結構中，這種特殊的鍵型結構賦予了碳化鈦許多獨特的性能。

行業應用優勢

1、高性能鍍膜：碳化鈦靶材在磁控濺射鍍膜過程中能夠形成高質量、高硬度的鍍膜層。這種鍍膜層具有優異的耐磨性、耐腐蝕性和高導電性，廣氾應用於刀具、切削工具、軸承等高強度應用領域。

2、高溫穩定性：碳化鈦靶材的高溫穩定性使其在高溫熱障塗層、高溫陶瓷和耐火材料等領域具有廣氾的應用。這些材料能夠在高溫環境下保持其物理和化學性質的穩定性，從而提高設備的可靠性和使用壽命。

3、化學穩定性：碳化鈦靶材具有良好的化學穩定性，能夠抵抗許多常見的化學腐蝕，包括酸、碱以及一些有機溶劑。因此，碳化鈦靶材可用於制備耐腐蝕塗料、防腐蝕材料和化學催化劑等領域。

4、定製服務：碳化鈦靶材的定製服務使得客戶可以根據具體需求調整靶材的純度、摻雜比例和規格。這種靈活性使得碳化鈦靶材能夠滿足不同應用領域對材料性能的特殊要求。

5、廣氾的應用領域：除了上述應用領域外，碳化鈦靶材還廣氾應用於航空航天、電子、光學塗層、聚變堆中的抗氚塗層以及掘進機截齒塗層等領域。在這些領域中，碳化鈦靶材以其優異的性能為設備的性能提升和可靠性提供了有力保障。

綜上所述，碳化鈦TiC靶材作為一種高性能的磁控濺射靶材材料，在物理性能和行業應用方面均表現出獨特的優勢。隨着科技的不斷髮展和進步，碳化鈦靶材的應用領域將不斷拓展和深化，為材料科學和工程領域的發展做出更大的貢獻。